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等离子体喷涂装置和方法

放大字体  缩小字体 http://www.xxtlw.com  发布日期:2013-04-26  浏览次数:62

  名称:等离子体喷涂装置和方法

    公开(公告)号:CN101653047

    公开(公告)日:2010.02.17

    主分类号:H05H1/24(2006.01)I

    申请(专利权)人:等离子体技术有限公司

    地址:英属维尔京群岛托托拉岛

    发明(设计)人:尼克莱·苏斯洛夫

    国际申请:2007-02-02PCT/EP2007/000919

    国际公布:2008-08-07WO2008/092478

    进入国家日期:2009.09.30

    专利代理机构:北京安信方达知识产权代理有限公司

    代理人:颜涛

    摘要

    本发明公开了用于等离子体喷涂的装置和方法。该装置包括阴极、阳极、由阳极和中间电极形成的等离子体通道、和一个或多个可流动材料注射器。等离子体通道具有节流部分,其将该等离子体通道分为由至少一个中间电极形成的接近阴极的高压部分和接近阳极的低压部分。在操作过程中,等离子体发生气体由保持在阴极和阳极之间的电弧加热,以形成等离子体。当等离子体通过节流部分时,等离子体的速度增大到超音速,而同时等离子体的静态压力下降。可流动的材料被注入在低压部分中流动的等离子体中。在可流动材料中的微粒由等离子体加热,并且生成的被加热微粒和等离子体从等离子体通道的出口被输出。

 
 
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